【专利信息】
专利名称：碳化硅陶瓷分离及其制备方法
专利号：201911079133.1
行业分类：C 化学；冶金
法律状态：实审
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【专利技术介绍】
本专利技术提供一种碳化硅陶瓷分离膜及其制备方法，碳化硅陶瓷分离膜中的碳化硅膜层与基体的结合力强，且碳化硅膜层的硬度高，分离膜包括多孔氧化物陶瓷基体及碳化硅膜，碳化硅膜设置在所述多孔氧化物陶瓷基体的表面，碳化硅膜为开口多孔结构，多孔氧化物陶瓷基体包括但不限于平板式多孔陶瓷、碟式多孔陶瓷、管状多孔氧化物陶瓷、中空纤维状氧化物陶瓷。
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1. 本专利技术提供的碳化硅陶瓷分离膜孔径及孔径分布可以通过多孔氧化物陶瓷基体以及包含过渡膜层的基体的孔径及孔径分布进行调节；易于制得孔径小于100nm的碳化硅陶瓷分离膜；
2. 本发明通过将物理气相沉积在基体上形成的碳化硅膜层放入真空或惰性气氛进行热处理，可避免碳化硅膜出现氧化，使得碳化硅膜层从无定型生长成为晶体，从而提高碳化硅膜层与基体的结合强度。
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【应用场景及市场前景】
膜分离技术在食品工业、水处理、生物技术、医药工业和医疗设备、环保和能源等领域中有着非常广泛的应用。
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【研发单位】
